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白宫官员：对华EUV光刻机出口限制必须继续实施

白宫官员：对华EUV光刻机出口限制必须继续实施

俄罗斯卫星通讯社

据路透社消息，白宫人工智能及加密货币事务主管戴维·萨克斯（David Sacks）周五表示，限制向中国出售极紫外 (EUV) 光刻设备是美国在半导体领域“最重要的单一出口管制措施”。 2025年5月24日, 俄罗斯卫星通讯社

2025-05-24T10:29+0800

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消息称，荷兰公司阿斯麦（ASML）制造EUV芯片制造设备，用于生产最先进的半导体。光刻系统利用光束来创建芯片电路。ASML第一代EUV系统目前用于制造大多数智能手机芯片和人工智能芯片，它使用“极紫外”波长的光来创建分辨率低至13纳米（比病毒还小）的设计特征。去年12月，荷兰《新鹿特丹报》（NRC）发布消息称，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）表示，由于美国对华禁止出口EUV光刻设备，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，中国芯片技术将落后西方10年或15年。据中国外交部网站消息，5月22日，中共中央政治局委员、外交部长王毅在北京同荷兰外交大臣费尔德坎普举行会谈。双方在全面深入交换意见基础上达成六点共识，其中包括“双方讨论了双边贸易关切，同意通过现有渠道，就包括半导体技术在内的多领域合作保持密切沟通”。费尔德坎普周四在会见记者时表示，在此次访华期间，中国官员曾向他提出放宽半导体出口管制的问题。对此，中国外交部发言人回应称，关于半导体出口管制问题，中方已经多次表明立场，半导体产业高度全球化，产供链的形成是市场和企业选择的结果。一段时间以来，个别国家泛化国家安全概念，滥施出口管制和“长臂管辖”，严重威胁全球产供链稳定。中国和荷兰在半导体领域互补性强，合作互利共赢，双方将通过现有的渠道保持密切沟通，中方愿同包括荷兰在内的国际社会一道，坚持开放合作，共同维护全球半导体产供链的稳定。

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