https://sputniknews.cn/20260728/1072512261.html

媒体：中国开始生产自主研发的DUV光刻机，预计年内交付

媒体：中国开始生产自主研发的DUV光刻机，预计年内交付

俄罗斯卫星通讯社

路透社援引西方科技媒体“The Information”报道称，中国已开始生产自主研发的浸没式深紫外（DUV）光刻机。在美国正考虑进一步收紧对外国光刻设备对华出口及在华维修服务限制的背景下，该技术或为中国芯片制造商提供关键设备的替代来源。 2026年7月28日, 俄罗斯卫星通讯社

2026-07-28T08:22+0800

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报道指出，中国国产光刻机预计将于今年内交付给包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储在内的国内主要芯片制造商。知情人士未透露这家获得国家支持的制造商的具体名称。此类芯片制造关键设备长期由荷兰供应商阿斯麦（ASML）主导。此次突破或将对阿斯麦在中国市场的地位构成潜在挑战。2019年，荷兰政府未续发阿斯麦向中国出口EUV光刻机所需的许可证，相关设备最终未能交付。自此之后，阿斯麦未再向中国客户交付过EUV光刻机。《金融时报》去年9月曾报道，中芯国际测试的国产浸没式DUV光刻机来自上海企业宇量昇。该公司与深圳国资控股的新凯来存在资本或项目关联，因此外界有时将其称为“新凯来系”光刻机。该设备当时仍处于测试与调校阶段，目标为在2027年前后实现商业量产。

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